GeForce RTX 50″Blackwell”GPU採用台積電3奈米製程支援DisplayPort 2.1
NVIDIA新一代GeForce RTX 50″Blackwell”圖形處理器預計將採用最新的台積電製程節點，同時採用DisplayPort 2.1標準。Kopite7kimi 提供的最新消息顯示，英偉達（NVIDIA）正在為GeForce RTX 50″遊戲”系列使用的Blackwell GPU 做準備，該GPU 將採用台積電的3nm 工藝節點。
如果我們將N5（英偉達的4N 最佳化5nm 變體）與最新的3nm 製程技術進行比較，那麼3nm 製程技術將使功耗降低25-30%，單位電晶體效能提高10-15%，面積縮小42%，密度提高1.7 倍。與目前的5nm 節點相比，這些都是相當可觀的提升，而5nm 節點在現有的GeForce RTX 40″Ada Lovelace”系列中提供了驚人的每瓦性能（效率），因此我們可以期待NVIDIA 在效率方面進一步領先競爭對手。
英偉達面向HPC/AI 的”Blackwell”GPU 預計也將採用台積電的3nm 製程節點和最新的HBM3e 記憶體解決方案。同時，英偉達專注於遊戲的顯示卡將採用最近猜測的GDDR7 記憶體解決方案。這將是多年後，HPC 和Gaming 系列首次採用相同命名規則的架構。
除了製程節點技術，NVIDIA 也有望在其下一代顯示卡中採用DisplayPort 2.1 技術，這將使其與AMD 的Radeon RX 7000 GPU 看齊，後者自去年起就開始提供該技術。GeForce RTX 40 GPU 沒有採用DP 2.1 技術是一大遺憾，但看起來英偉達將在其即將推出的圖形架構中支援最新技術。至於上市時間，NVIDIA GeForce RTX 50″Blackwell”圖形處理器架構預計將於2024 年底或2025 年初亮相。