雖然目前美日荷均出台了政策，限制先進半導體設備的對華出口，但中國進口的半導體設備金額仍在快速成長。根據日經新聞報道，分析中國海關的數據顯示，今年三季（7-9月）中國半導體製造設備進口額較去年同期暴漲了93%至634億元人民幣。就產品類別來看，光刻設備進口額暴漲了近4倍。

就國別來看，來自荷蘭的進口額暴漲了超過6倍。預估其中大部分為荷蘭光刻機龍頭艾ASML的光刻機產品。來自日本的半導體設備進口額成長約40%、來自美國的進口額則僅成長20%。

從第三季中國半導體設備來源區域的進口額佔比來看，美國佔比僅9%，遠低於2021年的17%，日本佔比也從32%降至25%，而荷蘭則從約15 %飆升至30%。

ASML公佈的三季財報也顯示，其三季來自中國大陸的銷售收入佔比由第二季的24%（銷售額約13.45億歐元），幾乎翻倍成長到了46%（銷售額約24.42億歐元），要知道今年第一季中國大陸的銷售收入佔比僅8%。這也進一步凸顯了中國大陸市場對於ASML光刻系統的需求的快速成長。

需要指出的是，美國在2022年10月開始對先進晶片/半導體設備對華出口管制，之後日本、荷蘭在今年才相繼跟進。而半導體設備從下單到交貨須半年到1年時間，因此預計在去年很多廠商就已經在大量下單荷蘭的半導體設備。

根據今年9月1日正式生效的荷蘭半導體出口管制新規，ASML TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式微影系統需要向荷蘭政府申請出口許可證才能出口。但目前有在販售的NXT:1980系列及以下型號則不受影響。隨後ASML的聲明顯示，儘管出口限制從9月開始生效，但該公司現有的許可證仍能夠允許其在2023年底前繼續將NXT:2000i 和更先進的DUV光刻機運送到中國。

今年10月17日晚間，美國政府又頒布了最新的出口管制規則，對於相關半導體設備的限制進行了更新。這也使得ASML的相關DUV光刻機的對華出口將會受到新的影響。

對此，ASML在財報會議上維持了與10月17日發布的聲明一致的口徑：「需要仔細評估潛在的影響。就我們的業務而言，根據目前收到的信息，我們認為適用該新規的涉及先進晶片製造的中國晶圓廠數量有限…ASML將向美國政府進一步澄清這些新規的適用範圍。ASML持續致力於遵守經營所在國家/地區所有適用的法律和法規，包括出口管制法規。 」

不過，ASML的聲明中所提到的「新規定將適用於中國與先進半導體製造相關的有限數量的晶圓廠」的說明，意味著少數中國先進晶圓廠採購DUV設備和零件可能將會受限。

Peter Wennink在業績說明會上僅表示，「1980Di原則上將受出口管制限制，但僅當用於先進半導體製造時，僅適用於少數應用。這意味著1980Di僅對少數晶圓廠禁止出口，但可向絕大多數應用於次關鍵和成熟過程的中國大陸客戶直接出口，無需許可。”