佳能計劃將其新型晶片製造設備的定價定在阿斯麥最佳光刻機成本的一小部分，尋求在尖端設備領域取得進展。佳能先前推出了奈米壓印半導體製造系統，試圖透過將該技術定位為比現有最先進工具更簡單、更易取得的替代方案，來重振其市場地位。

佳能的新型晶片製造機器可以利用極紫外光刻（EUV）技術，生產相當於5奈米規模的電路，而這一領域由產業領導者阿斯麥壟斷。佳能預計，隨著技術的持續進步和優化，其設備將有望實現下一代2奈米的生產水準。

該公司執行長Fujio Mitarai表示，該公司的新奈米壓印技術將為小型半導體製造商生產先進晶片開闢一條道路，目前幾乎完全屬於該行業最大的公司。

Mitarai表示，「這款產品的價格將比阿斯麥的EUV設備低一位數，」他也表示，最終的定價決定還沒有做出。

阿斯麥是EUV工具的唯一供應商，這種設備是世界上最先進的晶片製造機器，每台價值數億美元。只有少數現金充裕的公司有能力投資這些工具，這些工具目前正因其在科技供應鏈中的關鍵地位而受到審查。在美國向其盟友施壓，要求其限制技術流向中國之後，阿斯麥被禁止向中國客戶出口EUV系統。

這給佳能上個月上市的新工具帶來了希望。今年7月，日本擴大了對晶片製造出口的限制，但沒有明確提到奈米壓印光刻技術。

但Mitarai表示，佳能可能無法將這些機器運往中國。「我的理解是，14納米技術以上的任何產品都是禁止出口的，所以我認為我們賣不出去。」日本經濟產業省一位官員表示，他無法評論出口限制將如何影響某家公司或產品。

佳能與Dai Nippon Printing Co.和記憶體晶片製造商鎧俠合作研究奈米壓印製程已有近十年的時間。與透過反射光工作的極紫外光刻技術不同，佳能的技術將電路圖案直接印在晶圓上，從而製造出據稱與最先進節點相當的幾何形狀的晶片，儘管速度要慢得多。

這台新機器讓晶片製造商可以選擇降低對代工廠的依賴，同時也讓台積電和三星電子等代工晶片製造商更有可能大量生產晶片。佳能表示，這種機器所需的功率只有其EUV同類產品的十分之一。

Mitarai表示:“我不認為奈米壓印技術會取代EUV，但我相信這將創造新的機會和需求。”“我們已經收到了很多客戶的諮詢。”

佳能先前專注於製造較不先進的晶片，2014年開始押注奈米印記技術，收購了Molecular imprint Inc.。作為台積電的供應商之一，佳能正在東京北部的宇都宮建設其20年來的第一家光刻設備新工廠，將於2025年投入生產。