佳能開始推出其奈米壓印半導體製造系統，試圖透過將該技術定位為比現有最先進工具更簡單、更易取得的替代方案，來重振其市場地位。這家總部位於東京的公司的新型晶片製造機器可以利用極紫外光刻（EUV）技術，生產相當於5奈米規模的電路，這一領域由行業領導者阿斯麥壟斷。

佳能預計，隨著技術的持續進步和優化，其設備將有望實現下一代2奈米的生產水平，該公司週五在一份聲明中說。與競爭對手尼康一樣，佳能在EUV競爭中已經落後於阿斯麥，但其奈米壓印光刻方法可能有助於公司縮小差距。

佳能的設備也可能在美中貿易戰中開闢一個新的戰場，因為目前唯一可靠的製造5奈米及以下晶片的方法（EUV機器）被貿易制裁禁止進入中國。而日本公司的技術則完全省略了光刻過程，而是直接將所需的電路圖案壓印到矽片上。由於其創新性，它不太可能被現有的貿易限制所禁止。

目前，佳能的發言人拒絕對新設備是否受到日本出口限制發表評論。

奈米壓印光刻技術長期以來承諾提供一種低成本的光刻替代方案，並曾經得到了SK海力士和Toshiba Corp等記憶體晶片製造商的推廣。東芝的前儲存部門Kioxia在佳能的奈米壓印機器達到商業成熟之前就對其進行了測試。佳能現在必須證明它已經解決了過去遇到的問題，例如缺陷率高等。

阿斯麥是歐洲最有價值的科技公司，已經連續五個季度實現營收成長和訂單激增。這家總部位於荷蘭Veldhoven的公司是世界領先晶片製造商的首選EUV供應商，並預計今年淨銷售額將成長30%。

佳能股價今年已經上漲了26%，受惠於日本股市的整體上漲，以及人工智慧應用帶來的晶片製造設備需求增加。

佳能迄今主要專注於用於製造較不先進晶片的產品，在2014年收購了奈米壓印先驅Molecular Imprints Inc．，並花了近十年時間研發該技術。作為台積電（TSM.US）的供應商，佳能正在東京北部宇都宮市建造其二十年來第一個新的光刻設備工廠，預計將於2025年投入營運。