現在俄羅斯也是公佈了自己的晶片發展路線，其要在2030年實現14nm國產晶片製造。目前，俄羅斯微電子企業可以生產130nm製程的產品，但這遠遠不夠的。

根據俄羅斯的說法，計劃到2026年實現65nm的晶片節點工藝，2027年實現28nm本土芯片製造，到2030年實現14nm國產芯片製造，而到2030年需要投資約3.19萬億盧布（384.3億美元）。

在這之前，根據俄羅斯國際新聞通訊社報道，聖彼得堡理工大學的研究人員開發出了一種“國產光刻複合體”，可用於蝕刻生產無掩模晶片，這將使“解決俄羅斯在微電子領域的技術主權問題」成為可能。

據介紹，其中一種工具的成本為500萬盧布（目前約36.3萬元），另一種工具的成本未知。

據開發人員稱，傳統光刻技術需要使用專門的掩膜板來獲取影像。該裝置由專業軟體控制，可實現完全自動化，隨後的另外一台設備可直接用於形成奈米結構，但也可以製作矽膜，例如用於艦載超壓感測器。