據彭博社報導，一家名為Lasertec的日本公司，在芯片製造商增加每一代芯片晶體管數量方面默默發揮著重要作用，它是世界上唯一一家為極紫外光刻(EUV光刻)製造測試設備的公司，EUV光刻可以使用等離子束在矽晶片上蝕刻小於7nm的電路，因為製造芯片過程中會出現難以發現的問題，所以需要Lasertec生產的機器檢測。

此前台積電和三星生產的芯片分別採用7nm和8nm工藝，這兩個可以讓更多的晶體管封裝在更小的區域內。這使得像高通，華為，三星和蘋果等手機製造商的芯片設計師能夠創造出比上一代更強大的芯片，同時功耗更低，這也使得手機製造商能夠生產更薄的手機。而台積電和三星會在今年晚些時候使用EUV光刻，可以幫助這兩家公司生產出更強大的芯片。

Lasertec公司的機器就是專門用來尋找EUV光刻生產芯片時出現的瑕疵，機器可以測試等離子光束通過的玻璃掩模，以追踪電路模式，從而發現存在的問題。因為在芯片生產的階段，出現的任何瑕疵都會導致一批芯片報廢，所以需要一個機器來檢測這些瑕疵。到目前為止，該公司表示已收到價值3600萬美元(約合人民幣24154萬元)的機器訂單。一旦台積電和三星開始使用7nm EUV光刻大規模生產芯片，Lasertec公司預計會有更多訂單。

雖然EUV光刻生產效率高，但使用EUV光刻的成本限制了使用該工藝的鑄造廠的數量。英特爾表示，採用EUV光刻在經濟上尚不可行，而格羅方德半導體公司已決定不再採用EUV光刻。根據三星的說法，7nm EUV光刻將使三星生產的芯片效率提高40%，從而將性能提升20%，同時將功耗降低50%，這一點對未來的三星手機用戶是個好消息。