2017年出貨11台，2018年出貨18台，ASML（阿斯麥）上週表示，計劃在2019年出貨30台EUV光刻機。目前，ASML佔有全球光刻機市場70%的份額，遠遠領先尼康。更重要的是，僅荷蘭ASML有能力製造和出貨EUV光刻機，尼康的最高技術水平還停留在ArF氟化氬沉浸式光刻機。

與此同時，ASML將在2019年推出產能更高的新型號Twinscan NXE: 3400C，取代現款售價1.2億美元（約合8億）的Twinscan NXE: 3400B。3400C的每小時晶圓雕刻能力從155片提升至170片，換裝Cymer公司的340W光源。

資料顯示，截至去年7月，全球各公司、研究機構等總共僅安裝了31台EUV光刻機。不過，遺憾的是，迄今，大規模使用EUV（極紫外光刻）技術的先進工藝仍未量產，三星7nm LPP理論上進度最快，但當下僅限於在S3工廠小規模投產，年底位於韓國華城、投資6萬億韓元（約合362億元）的工廠竣工後，將是三星7nm EUV主力廠。

另外，台積電的第二代7nm也將在非關鍵步驟上採用EUV技術，Intel、SK海力士也都對EUV光刻機有強烈需求。