根據「中國光谷」公眾號，日前，武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱「太紫微公司」）推出的T150 A光阻產品，透過半導體製程量產驗證。 T150 A光阻實現配方全自主設計，對標國際頭部企業主流KrF光阻系列。

據介紹，相較於國外同系列產品UV1610，T150 A在光刻製程中表現出的極限解析度達到120nm，且製程寬容度較大，穩定性較高，堅膜後烘留膜率優。

透過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。

資料顯示，太紫微公司成立於2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。

光阻又稱光致抗蝕劑，指透過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度改變的耐蝕劑刻薄膜材料。

光阻主要應用於顯示面板、積體電路和半導體分離式元件等細微圖形加工作業。