隨著日本準備進口其首批極紫外線（EUV）光刻機，作為唯一技術提供商的ASML計劃大幅增加其當地員工。根據日報報道，ASML計劃在2026年將日本子公司的員工人數擴大到600人，比目前的員工人數增加50%。這一成長是由Rapidus、美光和台積電子公司JASM等在日本引進EUV系統所推動的。

Rapidus將於2024年底在北海道千歲市建成第一座晶圓廠，並將引進ASML的EUV光刻系統以建立其試點生產線，這項舉措標誌著EUV設備在日本的首次部署。

在廣島經營DRAM工廠的美光科技也計劃在2025年前在其工廠內引進EUV設備，以生產先進的1γ DRAM產品和高頻寬記憶體（HBM）。

儘管包括鎧俠、索尼和JASM在內的其他ASML日本客戶尚未在當地使用EUV系統，但ASML正在這些半導體工廠附近設立服務中心，以滿足他們的需求。

到2024年9月，ASML將在Rapidus的北海道工廠附近建立一個服務中心，最初將配備多達30名人員，以協助建立試點生產線。到2027年2nm晶片開始量產時，這數字預計將成長到50名。隨著該新中心的建立，ASML在日本的服務中心總數將增加到8個。

日本半導體企業的擴張在很大程度上是受日本政府大量補貼的推動，旨在使日本成為先進晶片製造業的領導者。引進EUV技術是此策略的關鍵部分，旨在增強經濟安全性並加強日本在高價值先進晶片供應鏈中的地位。

Rapidus工廠已從日本政府獲得總計9,200億日圓（58.7億美元）的補貼，但這還低於全面生產所需的2兆日圓。美光在廣島工廠的5,000億日圓投資中包括1,920億日圓的政府補貼。

ASML增加員工人數其中也有JASM的需求原因，JASM將於2024年開始第一家工廠的量產，第二家工廠也將開始建設併計劃於2027年建成。這些工廠將生產的6nm/7nm先進製程晶片需要EUV設備，因此需要額外的維護和支援。

根據KnowledgeStore預測，2023年至2028年期間，EUV光刻市場將以年均21%的速度成長，到2028年市場規模將達到252億美元。