日本在EUV光刻領域保留對供應鏈關鍵部分的控制，例如半導體材料。據了解，晶片製造涉及19種關鍵材料，且多數都具有較高技術壁壘，而日本企業在其中14種關鍵材料中佔據全球超過50%的市場份額。

由於市場對需要EUV光刻系統的先進晶片的需求不斷增長，東京應化、信越化學、三菱化學等日本公司正在增加投資並關注EUV關鍵技術所用材料的供應。

東京應化（TOK）正在福島縣建造一座全新的先進光阻工廠，該工廠預計將於2024年底開工，2026年完工。工廠致力於提高KrF（氟化氪）和EUV光刻系統的光阻生產能力和質量，並將成為該公司最大的工廠。

信越化學將投資830億日圓（5.13億美元）在群馬縣建造第四家光阻工廠，該工廠計劃於2026年竣工，將滿足出口需求並進行研發活動。信越化學的光阻適用於各種光刻工藝，包括EUV。

三菱化學加大了對光阻材料Lithomax的投入。該公司正在其九州工廠安裝量產設備，目標是將ArF光阻產量提高一倍以上，並在2025年9月之前實現EUV光阻的首次量產。

三井化學正在開發下一代掩模防護膜，即用於EUV光刻的保護膜。其山口工廠計畫2026年開始生產，年產量為5,000片。

AGC透過其子公司AGC Electronics加大了對EUV掩模版設備的投資，旨在將產能提高30%。這些用於晶片圖案化的掩模版由AGC內部生產並供應給主要晶片製造商。 AGC的目標是到2025年EUV掩模版的銷售額超過400億日圓。