ASML今年將向台積電運送其最新的晶片製造設施。據ASML 公司發言人Monique Mols 稱，該公司財務長Roger Dassen 在最近的一次電話會議上告訴分析師，ASML 的兩大客戶台積電和英特爾公司將在今年年底前獲得所謂的高數值孔徑（高NA ）極紫外線（EUV）微影系統。

英特爾先前已經訂購了最新的高NA EUV設備，第一台設備已於12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML 最大的EUV 客戶台積電何時會收到設備。這家台灣晶片製造商的代表表示，該公司與其供應商密切合作，並拒絕進一步評論。

報告發布後，ASML 週三股價上漲5.2%，截至阿姆斯特丹下午2:15 時，股價為918.10 歐元。今年以來，該公司股價已上漲約35%。

ASML 的新機器可以用僅8奈米的線寬壓印半導體，比上一代機器小1.7 倍，將用於生產為人工智慧應用和先進消費性電子產品提供動力的晶片。

這些機器每台造價3.5 億歐元（3.8 億美元），重量相當於兩架空中巴士A320。 ASML 是世界上唯一一家生產極紫外光微影技術的公司，對其產品的需求是該產業發展軌蹟的試金石。

台積電對該設備的標價表示擔憂，高級副總裁張曉強（Kevin Zhang）5月在阿姆斯特丹表示：”我喜歡高NA EUV的能力，但我不喜歡它的標價。」他說，台積電所謂的A16 節點技術將於2026 年底問世，該技術不需要使用ASML 的高數值孔徑超高真空（high-NA EUV）設備，可以繼續使用台積電較舊的極紫外線設備。

不過，台積電一直沒有積極參與ASML 的高DNA EUV計畫。包括Janardan Menon 在內的Jefferies 分析師表示，他們預計台積電將於2028 年在A14 節點使用高納晶。這些分析師在與Dassen通完電話後表示，ASML仍認為2025年的營收可能會在指導範圍的上半部。

傑富瑞分析師表示，ASML 今年剩餘三個季度的平均訂單可能在57 億歐元左右，從而將2025 年的銷售額推高至400 億歐元。