SK hynix發布321層TLC NAND 1Tb閃存技術將於2025年上半年量產
在8月8日至10日於聖克拉拉舉行的閃存峰會(FMS)2023上,SK海力士公司介紹了其321層1Tb TLC* 4D NAND閃存的開發進展,並展示了樣品。SK hynix是業內首家詳細公佈300多層NAND開發進展的公司。該公司計劃提高321層產品的完成度,並在2025年上半年開始量產。 該公司表示,已量產的全球最高238 層NAND 的成功為其積累了技術競爭力,為321 層產品的順利開發鋪平了道路。”隨著解決堆疊限制的又一次突破,SK hynix 將開啟300 層以上NAND 的時代,引領市場潮流。” 321層1Tb TLC NAND與早一代238層512Gb相比,生產率提高了59%,這得益於技術的發展,它可以在單個芯片上堆疊更多的單元和更大的存儲容量,這意味著在單個晶圓上可以生產的總容量增加了。ChatGPT 的推出加速了生成式人工智能市場的發展,自此,對能以更快速度處理更多數據的高性能、大容量存儲器產品的需求迅速增長。因此,在本屆FMS上,SK hynix還推出了針對這種人工智能需求進行優化的下一代NAND解決方案,包括採用PCIe Gen5接口和UFS 4.0的企業級固態硬盤。該公司希望這些產品能夠實現業界領先的性能,充分滿足客戶對高性能的需求。同時,SK hynix還宣布已開始開發下一代PCIe Gen6和UFS 5.0,並通過這些產品獲得了更完善的解決方案開發技術。