日本彎道超車向美國取經最先進的2nm EUV工藝學到手
在半導體工藝落後世界先進水平20多年之後,日本去年決心要重振晶圓製造,豐田、索尼、瑞薩等8家行業巨頭聯合成立了Rapidus公司,計劃最快在2025年搞定2nm EUV工藝。日本當前的工藝也就是45nm水平,直接進入2nm無異於彎道超車,為此Rapidus公司跟美國IBM公司達成了合作,要從後者那裡獲得2nm技術授權。
Rapidus公司將派出100名工程師到IBM公司學習,將獲得2nm工藝生產所需的GAA環繞柵極晶體管技術,這是實現2nm的關鍵。
此前的4月份Rapidus已經派出一批工程師到IBM商談合作了。
根據Rapidus公司的建設計劃,他們將在日本北海道地區建立晶圓廠,2023年9月份開工,2024年6月份完成廠房基礎設施,並開始潔淨室建設。
2025年4月開始運營一條試驗性生產線,並引進EUV光刻機等設備,目標是2027年開始大規模量產2nm工藝——這個進度比台積電、三星及Intel量產2nm節點工藝只晚了1-2年。
不僅要量產2nm工藝,Rapidus公司還計劃在2030年代實現每年1萬億日元的營收,約合人民幣510億或者72億美元。