ASML（荷蘭阿斯麥）正抓緊研製其下一代高NA（0.55數值孔徑）的EUV極紫外光刻機，在發布最新財報期間，AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購了新一代設備。具體來說，在Intel和台積電之後，三星、SK海力士、美光等也下單高NA EUV光刻機了。

高NA EUV光刻機允許加工更精密的半導體芯片，生產效率也更高，它也是2nm及更先進工藝的必要條件。

韓國設備商透露，現款EUV光刻機的訂貨價是2000~3000億韓元（約合10~16億元人民幣），而高NA EUV光刻機的報價翻番到了5000億韓元（約合26億元）。

據了解，在三季度財報中，ASML完成58億歐元的淨銷售額，毛利率51.8%、淨利潤17億歐元，公司預計四季度淨銷售額在61~66億歐元之間。

CEO Peter Wennink，其三季度預訂產品的銷售額達到創紀錄的89億歐元，其中EUV設備就有38億歐元。