三星第二代3nm GAA工藝將於2024年量產
前一段時間,三星在京畿道華城工廠V1生產線,舉行了採用下一代GAA(Gate-All-Around)架構晶體管技術的3nm代工產品發貨儀式。三星表示,與原來採用FinFET的5nm工藝相比,初代3nm GAA製程節點在功耗、性能和麵積(PPA)方面有不同程度的改進,其面積減少了16%、性能提高23%、功耗降低45%。
雖然三星信心滿滿,但事實上目前3nm GAA工藝缺乏客戶,更重要的是,平時熱衷採用新工藝的移動SoC暫時都沒有選用。有消息指出,三星可能會使用3nm工藝製造Exynos 2300,或用於明年的Galaxy S23系列,不過有報導稱由於表現不達預期,Galaxy S23系列可能全部採用高通的解決方案。此外,谷歌第三代Tensor芯片也可能採用三星3nm工藝,將用於Pixel 8系列,但目前還沒有消息。
近年來三星的其中一個大客戶高通,由於4nm/5nm的良品率和能效問題,在新一代旗艦SoC上已轉投台積電(TSMC),對三星造成了相當大的打擊。據Wccftech報導,高通對三星第一代3nm GAA工藝興趣不大,不過有留意其進展情況,隨時進行評估,到第二代3nm GAA工藝可能會參與進來。
據了解,三星第二代3nm GAA工藝將會在2024年量產。三星表示,第二代3nm GAA工藝將加入MBCFET架構,使得3nm芯片的面積減少35%、性能提高30%、功耗降低50%,如果良品率也能跟上,這樣的提升或許會讓高通滿意。