功耗降低30% 台積電重申2nm工藝2025年量產
今天的Q2財報會議上,台積電除了公佈當季運營數據之外,還談到了工藝進展,確認3nm工藝今年下半年量產,2nm則會在2025年量產。目前HPC高性能計算佔了台積電營收的重要部分,對先進工藝要求也是很高的,台積電的3nm工藝今年下半年量產,明年上半年貢獻營收,不過初期會拉低一些毛利率,大約2-3個點。
台積電的3nm工藝共有5個衍生版本,包括N3、N3P、N3S、N3X、N3E等等,會陸續在未來兩三年內量產。
再往後就是2nm節點了,這是台積電的有一個重大節點,會採用納米片晶體管(Nanosheet),取代FinFET(鰭式場效應晶體管),也就是進入GAA晶體管時代,不過三星在3nm節點就已經採用這個技術了。
N2相較於N3,在相同功耗下,速度快10~15%;相同速度下,功耗降低25~30%,開啟高效能新紀元。
不過密度方面擠牙膏了,相比3nm僅提升了10%,遠遠達不到摩爾定律密度翻倍的要求,比之前台積電新工藝至少70%的密度提升也差遠了。
根據台積電的信息,2nm工藝將在2024年試產,2025年量產。