今天下午，知名遊戲主播PDD在微博上公開道歉，因為此前在直播間唱了《向天再藉五百年》，結果遭原作者索賠10萬元。對此，PDD表示自己和版權方律師的友好溝通，獲得了《向天再藉五百年》詞曲作者的諒解。

在6月最後一天，三星宣布3nm工藝正式量產，這一次三星終於領先台積電率先量產新一代工藝，而且是彎道超車，後者的3nm今年下半年才會量產。

根據三星官方介紹，在3nm芯片上，其放棄了之前的FinFET架構，採用了新的GAA晶體管架構，大幅改善了芯片的功耗表現。

與5nm相比，新開發的3nm GAE工藝能夠降低45%的功耗，減少16%的面積，並同時提升23%的性能。

第二代的3nm GAP工藝可以降低50%的功耗，提升30%的性能，同時面積減少35%，效果更好。

再往後呢？三星也有了計劃，3nm GAP工藝之後就會迎來2nm GAP工藝，也是基於納米片技術的GAA晶體管，但是結構進一步優化，從3個納米片提升到4個，可以提高驅動電流，同時還會優化堆疊結構以提升性能，降低功耗。

2nm GAP工藝的量產時間也定了，預計在2025年量產，時間點跟台積電量產2nm工藝差不多，而且很可能在技術上領先後者，因為台積電的2nm工藝在晶體管密度上擠牙膏，提升只有10%。