光刻膠自1959年被發明以來一直是半導體核心材料，隨後被改進運用到PCB板的製造，並於20世紀90年代運用到平板顯示的加工製造。在光刻工藝中，光刻膠是利用光化學反應經曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基襯底上的有機化合物，是集成電路和平板顯示兩大產業光刻工藝的重要部分，也是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一。

光刻膠行業具有極高的行業壁壘，因此其行業呈現寡頭壟斷的局面。光刻膠行業長年被日本等發達國家的專業公司壟斷。整個光刻膠市場格局來看，日本是光刻膠行業的巨頭集中營。日本企業重視向半導體產業鏈縱深發展，積極研發光刻膠，目前日本JSR、東京應化、日本信越與富士電子材料市佔率總計佔據了全球市場72%的份額，並且高分辨率的KrF和ArF光刻膠核心技術及產品也基本被日本和美國企業所壟斷，其中，日本的企業中包括日立化成、三菱化成、旭化成、住友電木、住友化學、陶氏化學、JSR株式會社、信越化學、東京應化工業和富士膠片等。

光刻膠技術按大分類分為光刻膠構成要素技術、光刻膠製造技術、光刻膠用途技術。光刻膠構成要素技術由原材料技術和層構成技術、相移等的圖案構成技術構成。光刻膠製造技術分為胚料工藝流程相關的製造技術、光刻膠工藝流程相關的製造技術。光刻膠用途技術有保管技術、搬運技術、定位和固定技術、半導體以及液晶面板等方面的應用領域的相應​​技術。此外，與曝光機相關的技術，包括光曝光（光光刻膠）、EUV曝光（EUV光刻膠）、X光曝光（X光光刻膠）、粒子線曝光（粒子線（電子束線）光刻膠）等相應技術。

下面，再針對日本JSR、東京應化、日本信越和富士電子材料四大日本光刻膠企業，我們抽取出幾個重要分類，來看看這幾家日本光刻膠企業歷來在光刻膠方面的專利申請情況。

日本四大光刻膠企業專利申請統計表

（a）用途分類

（b）課題分類

（c）解決手段分類

從上述數據可以看出，這四大日本光刻膠企業在光刻膠的各個細分領域都有相當數量的光刻膠專利技術儲備，尤其是日本信越和富士電子材料，在光刻膠的各個技術領域都佈局了大量的專利技術。

如今，在以存儲器為中心的半導體市場銷售低迷的情況下，在日本本土半導體光刻膠領域則呈現出另一番欣欣向榮的市場局面。日本擁有世界上最完整的半導體產業鏈，而且在上游的半導體設備和材料方面，日本廠商也有著極高的市佔率，其行業集中度高，龍頭企業市場份額高，行業利潤水平高，且暫無潛在替代產品。日本作為光刻膠大國，佔據了全球極大比例的市場份額，其技術壁壘之堅實，也依然非他國在短期內可以效仿和攻破。