今年四月，兩大芯片製造商台積電和三星先後宣布了5 納米製造工藝。台積電稱它的5 納米製程提供了15% 的性能提升或30% 的功耗改進，三星稱它的新工藝提供了10% 的性能提升或20% 的功耗改進。

分析師表示這些數據與預期的相符合。這與十年前的50% 提升不可同日而語，但從芯片工廠的投資判斷，客戶仍然認為這是值得的。

5 納米工藝將使用極紫外光刻技術，能在矽片上產生極端精細的圖案。光刻機非常昂貴，一台價值就超過一億美元。

極紫外光刻將是未來工藝製程的核心。在5納米之後將是3納米，但5和0之間的數字不多了，摩爾定律終結之日正一步步逼近。