蘋果有望在明年推出三款新iPhone，這是iPhone XS，XS Max和iPhone XR的直接後續產品。該公司預計不會進行任何重大的設計變更，這意味著Apple的缺口設計將繼續保留。然而，一位洩密者聲稱，2020年的iPhone型號將採用三星目前正在做的事情進行屏幕重新設計。我們談論的是沒有缺口的Infinity-O屏幕，因為自拍孔穿過屏幕。但不要以為蘋果正準備簡單地複制三星的新智能手機設計。

這是因為蘋果公司在2016年提交了一項描述鑽孔技術的專利，早在iPhone X及其缺口設計到來之前。

一位在推特和微博上名為Ice Universe並且通常專注於三星洩密的中國洩密者，幾天前發布了以下消息。根據他的說明，2019年的iPhone仍將有一個缺口，2020款將採用穿孔設計。

雖然蘋果公司在推出之前已經很好地確定了下一代iPhone的設計，但對於2020年的iPhone洩密來說可能還為時過早，所以我們將有足夠的時間等待，看看洩密者的信息是否準確。

蘋果之前的專利涉及在顯示屏中鑽孔相機孔所需的製造工藝的大量技術細節。請記住，蘋果沒有像三星這樣的顯示器製造部門。但蘋果正在研究將在未來幾個月內擴散的相同屏幕技術。儘管Galaxy S10的Infinity-O屏幕預計會更加複雜，但三星和華為都在過去幾週推出了帶攝像頭孔的顯示屏。

此外，如果蘋果確實推進了2020年的傳聞設計，我們應該期待iPhone製造商能夠找到一種方法來保持iPhone上的面部識別功能，而不會出現缺口。正如我們之前解釋的那樣，Galaxy S10可能有一個令人興奮的設計，但三星在其手機上沒有復雜的3D面部識別。