在當今半導體產業中，ASML無疑是光刻設備領域的王者，全球最先進的半導體製造廠商，如台積電、英特爾、三星等，都高度依賴ASML提供的設備。然而，很少人知道，這個如今在全球佔據主導地位的巨頭，最初竟然是從一個會漏水的棚子起步的。

根據最新報道，ASML最初是由飛利浦與先進半導體材料國際公司（ASMI）合作創立的，當時，兩家公司看到了曝光設備市場的潛力，決定共同建立一家專注於此領域的新公司。

不過ASML的起點並不理想，它的第一個基地位於荷蘭恩荷芬的Strijp-T原飛利浦園區，那是一個真正會漏水的單層預製建築，與飛利浦TQ大樓的一樓相連，舊照片顯示，當時的ASML基地確實是一個搖搖欲墜的棚子。

在1970年代初的研發基礎上，ASML很快就推出了其首個系統——PAS 2000 stepper曝光機，公司業務也迎來蓬勃發展。

1985年，ASML遷入了專為它建造的辦公室和工廠，巧合的是，ASML與鏡頭製造商卡爾蔡司的合作關係也在此時簽署，並持續至今。

進入1990年代，ASML推出了其突破性平台PAS 5500曝光設備，憑藉這一成功，ASML憑藉其領先業界的曝光設備生產力和分辨率，最終在荷蘭和紐約證券交易所成功上市。

2001年，ASML推出了第一台採用革命性雙級技術的Twinscan機器，如今，ASML憑藉其EXE平台和High-NA技術再次達到了競爭對手無法突破的界限。

ASML最新的年度報告顯示，其營收接近310億美元，業務遍及60多個國家地區，員工超過44,000名。