日本新創晶圓代工廠Rapidus已成功接收其訂購的首台ASML EUV微影機，這是日本境內首次引進量產用EUV光刻設備。 Rapidus也成為日本首家擁有EUV光刻機的公司，由於EUV系統體積龐大，完整設備重達71噸，將分四階段進行安裝，預計本月底在晶圓廠內完成。

Rapidus執行長小池淳義在新千歲機場舉行的典禮上表示，公司將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。

Rapidus計畫2025年春季完成2nm晶片原型開發，2027年實現量產，相較之下台積電則計畫2025年開始量產2nm晶片。

ASML是目前全球唯一的EUV光刻機供應商，每台設備成本約1.8億美元以上，去年全球僅交貨了42台。

資料顯示，日本曾在1980年代佔據全球超過50%的半導體市場份額，但到2000年代已退出先進邏輯製程晶片的競爭。

Rapidus的成立旨在重振日本先進晶片的生產能力，降低對進口晶片的依賴，日本政府目標到2030年實現國內半導體銷售額達15兆日元，達到2020年的三倍。