日本Rapidus將於12月中旬接收首台EUV光刻機ASML將在附近規劃服務中心
根據TrendForce 引述日經新聞的消息稱,Rapidus 從ASML 訂購的EUV 光刻機預計將於12 月中旬運抵日本。 這標誌著EUV 技術在日本的首次部署,是日本半導體產業尋求確立主要地位的重要一步。
Rapidus 目前正在北海道千歲市建造一座工廠,計劃於2027 年開始量產2 奈米晶片。 如果2 奈米晶片生產成功,該公司還計劃購買幾台EUV 設備,並打算建立第二個專門生產1.4 奈米晶片的生產設施。
為了支援這些業務,ASML 將在千歲市建立一個服務中心。
英偉達公司執行長黃仁勳暗示有可能將人工智慧晶片生產外包給Rapidus。 截至10 月,Rapidus 工廠的施工進度已達63%,仍在按計畫進行,該廠於2023 年9 月開工。
除Rapidus 外,美光的廣島工廠計畫於2025 年安裝EUV 設備,並於2026 年實現量產。
台積電在日本的子公司JASM 也計劃在2027 年將EUV 光刻技術與第二家晶圓廠整合,該廠將擁有一條6 奈米生產線。