全球光刻機產業終於迎來了一個有些「不一樣」的新產品——日本佳能公司本周宣布，成功交付首台新型奈米壓印光刻機。這裡首先需要解釋一下，佳能的奈米壓印光刻（NIL）系統，與阿斯麥的光刻技術有什麼不同。

（資料來源：佳能公司官網）

傳統的光刻機透過將電路圖案投影到塗有光阻的晶圓上來轉移電路圖案，佳能的設備則是透過將「印有電路圖案的掩模像印章一樣壓入晶圓上的光阻中」來生產晶片。由於電路圖案的轉移不需要透過光學機制，掩模上的精細電路圖案可以在晶圓上忠實地再現。

佳能在去年十月發表了全球首台商業化奈米壓印光刻系統FPA-1200NZ2C，公司表示這款設備可實現最小線寬為14奈米的電路圖案，相當於目前生產先進邏輯半導體用到的5奈米節點。

關鍵優勢是便宜

佳能表示，相較於傳統光刻機需要複雜的光學鏡片構造，奈米壓印設備的構造更為簡單，功耗僅需十分之一。同時也能透過單次壓印形成複雜的三維電路圖案，能夠處理用於最先進邏輯晶片的極細電路。

這條晶片製造路線的開發從2014年啟動。去年底開始，佳能與鎧俠（Kioxia）、大日本印刷合作開始銷售這款設備。

這次交付的首台設備將送往美國德州電子研究所。這是德州大學奧斯汀分校支持的團體，成員包括英特爾和其他晶片公司、公共部門和學術組織。這台設備將被用於晶片製造的研究與開發工作。

佳能光學產品副執行長Kazunori Iwamoto對媒體表示，公司計劃在未來3-5年內，每年銷售10-20台此類設備。

對佳能來說，進一步推廣奈米壓印技術也存在一些挑戰。首先由於「壓印」的物理機制，這種光刻機需要更先進的技術來防止細小的塵埃顆粒造成晶片缺陷。同時由於晶片製造涉及廣泛的產業鏈，拓展更多公司、特別是材料企業加入「奈米壓印產業鏈」對佳能來說也非常重要。