近日，工信部發布《首台（套）重大技術設備推廣應用指導目錄（2024年版）》。工信微報介紹稱，重大技術設備是國之重器，事關綜合國力和國家安全。

中國首台（套）重大技術設備是指國內實現重大技術突破、擁有智慧財產權、尚未取得明顯市場績效的裝備產品，包括整機設備、核心系統及關鍵零件等。

而就在電子專用裝備目錄下，積體電路設備方面出現了氟化氬光刻機和氟化氪光刻機，這兩者皆屬於DUV光刻機。

其中氟化氬光刻機顯示為解析度≤65nm、套刻≤8nm；氟化氪則顯示解析度≤110nm、套刻≤25nm。

不過要注意的是，套刻精度為“多重曝光能達到的最高精度”，按套刻精度與量產製程約1：3的關係，這個光刻機大概可以量產28nm製程的晶片，大致相當於20年前ASML的1460K。

28nm雖然不是特別先進技術，但意義依然重大，因為這是晶片中低階和中高階的分界線，目前除了最先進的CPU、GPU、AI晶片外，其餘的工業級晶片大多都是28nm以上技術。