今天，荷蘭政府與美國結盟，擴大了對ASML公司生產的其他機器的監督，這使中國透過依賴舊機器來加強國內晶片製造的嘗試遭到了打擊。 ASML最新的晶片製造設備使用紫外線列印電路，被稱為EUV微影機，早已經被荷蘭和美國限制向中國出售。

然而，這樣一來，一些舊型號機器只受到美國的限制，這就引發了荷蘭的主權問題，因為一個外國政府對荷蘭製造的產品施加了影響。

在荷蘭政府採取這項最新措施之前，截至今年7 月，中國在晶片製造設備上的花費已達到創紀錄的260 億美元。雖然美國和荷蘭對EUV 掃描儀的製裁實際上削弱了中國透過3 奈米和5 奈米等製程技術製造尖端晶片的能力，但較老的DUV 掃描儀卻使中芯國際等中國公司得以製造7 奈米晶片。

荷蘭貿易部長Reinette Klever 今天宣布了這項決定，並表示”由於技術的發展，這些特定生產設備的出口存在更多的安全風險”。有關機器是ASML 的TWINSCAN NXT:1980Di 和TWINSCAN NXT:1970Di 工具，該公司在部長宣布後的聲明中證實了這一點。

1980Di 尤其著重於多重圖案化。 ASML 網站上的掃描器產品簡介指出，該機器”可滿足多重圖案化要求，從而為我們的客戶提供先進節點的高性價比解決方案”。

隨著1980i DUV 系統被列入荷蘭政府的出口管制許可證要求清單，ASML 的第一級DUV 產品組合已完全被許可證要求所覆蓋。 1980i 是最低端的DUV 掃描儀，被稱為浸入式機器。它們是業界使用最廣泛的掃描儀，每天可生產6000 多片矽晶片。這些機器還可以透過套件升級為下一代EUV 掃描儀，在今天的公告發布後，ASML 將不得不向荷蘭政府申請出口這些機器的許可證，而不是向美國政府申請。

新規定明天生效，ASML 公司分享了這一消息，並補充說，由於該公司已就機器出口尋求美國政府批准，因此荷蘭制裁對該公司的財務影響很小。

雖然超紫外線設備為半導體製造製程帶來了一系列新的複雜性，但它們也降低了複雜性，因為晶片製造商可以使用更精細的光束在矽片上列印電路。透過老式的DUV 機器進行多重圖案化也能達到類似的效果。最新的一套規則似乎是針對中國的這種變通能力，而這種變通往往也是以降低產量和產品品質為代價的。