隨著日本政府對半導體產業扶持力度的顯著增強，許多科技巨頭紛紛將目光投向日本，選擇在日本設立高端研究中心與生產據點，搶先未來科技制高點。此前，英偉達已宣布與日本頂尖科研機構－日本產業技術綜合研究所（AIST）攜手，共同研發面向未來的量子運算系統，該系統旨在無縫整合於前沿量子硬體之中，標誌著雙方在量子科技領域的深度合作邁入新階段。

而今，AIST再度發力，將合作對象鎖定為半導體產業的另一巨頭英特爾。雙方計畫聯手打造一座專注於先進晶片製造技術的新研發中心，聚焦於EUV（極紫外線）光刻技術的深度研發，預計在未來3至5年內正式投入營運。

該研發中心預計耗資數億美元，不僅為日本本土企業提供了與英特爾及AIST並肩作戰的寶貴機會，共同探索EUV光刻技術的無限可能，進行原型設計與測試，還大大降低了日本晶片設計公司對海外資源的依賴度，加速了本土創新步伐。

值得注意的是，日本企業在全球半導體供應鏈中扮演著舉足輕重的角色，特別是在EUV技術的多個關鍵領域，擁有不可忽視的市場份額和影響力。

英特爾此番佈局，無疑也是看中了日本企業的深厚底蘊與創新能力，期望透過深化合作，進一步鞏固自身在全球半導體市場的戰略地位。