比利時微電子研究中心（IMEC）與阿斯麥（ASML）宣佈在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開設聯合High-NA EUV微影實驗室（High NA EUV Lithography Lab）。該實驗室經過多年的精心構建與集成，現已全面準備就緒，將為全球領先的邏輯和存儲晶片製造商以及先進材料和設備供應商提供尖端技術支援。

實驗室內的核心設備為一台原型高數值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000），以及與之配套的處理與計量工具，這些工具將共同協助未來晶片製造的突破。

此次聯合實驗室的開放，被視為High-NA EUV技術大批量生產準備過程中的重要里程碑。業界預計，隨著該技術的不斷成熟和普及，將在2025-2026年期間迎來大規模的量產應用。

值得一提的是，阿斯麥先前已公開展示了最新一代的High NA EUV光刻機。這台光刻機體積龐大，相當於一輛雙層巴士，重量更是高達150噸。

由於其龐大的體型和複雜的組裝過程，該設備需要被分裝在250個單獨的板條箱中進行運輸，顯示了其在製造和運輸過程中的非凡挑戰。

儘管High NA EUV光刻機的製造成本高昂，據透露其售價高達3.5億歐元（約27億元人民幣），但其在半導體製造領域的價值卻無可估量。它將成為全球三大晶圓製造廠實現2nm以下先進製程大規模量產的必備武器。