三星:已完成16層混合鍵結HBM記憶體驗證整體高度縮減
三星電子高層近日透露,該公司完成了採用16層混合鍵合HBM 內存技術驗證,已製造出基於混合鍵合技術的16層堆疊HBM3內存樣品,該內存樣品工作正常,未來16層堆疊混合鍵合技術將用於HBM4內存量產。混合鍵結技術作為新型的記憶鍵合方式,相較於傳統工藝,展現了顯著的優勢。
它摒棄了DRAM記憶體層間添加凸塊的繁瑣步驟,透過銅對銅的直接連接方式實現層間連接,從而大大提高了工作效率。
這種創新不僅顯著提升了訊號傳輸速率,更好地滿足了AI運算對高頻寬的迫切需求,而且有效降低了DRAM層間距,使得HBM模組的整體高度得到顯著縮減,進一步提升了其整合度和便攜性。
儘管混合鍵合技術的成熟度和應用成本一直是業界關注的焦點,但三星電子透過多元化的策略,積極應對這些挑戰。在推進混合鍵合技術研究與應用的同時,公司也同步開發傳統的TC-NCF工藝,以實現技術多樣化,降低風險,並增強整體競爭力。
據悉,三星設定的目標是將HBM4中的晶圓間隙縮減至7.0微米以內,這將進一步提升HBM4的效能和可靠性,為未來的運算應用奠定堅實基礎。
業內專家對此表示,三星在16層混合鍵結堆疊製程技術方面的突破,無疑將有力推動HBM記憶體技術的發展,為未來的運算應用提供更強大的記憶體支援。