晶片設備製造商阿斯麥（ASML）2月10日向媒體展示新一代極紫外光刻機（EUV），型號為：TWINSCAN EXE:5000。這台光刻機大小約一輛雙層巴士，重量約兩架空中巴士A320飛機、價值高達3.5億歐元（約27億元）。該設備對ASML在1250億美元的EUV市場保持領導地位至關重要。

ASML預計今年能出貨「數台」High NA EUV。英特爾已下了訂單，第一台設備已於去年12月送達該公司俄勒岡州工廠，這台EUV可以製造8nm線寬電路，比前一代小1.7倍，進而達到電晶體密度提高至2.9倍。電路越細，晶片上的電晶體就越多，處理速度和表現就越佳。ASML高層表示，該設備對人工智慧（AI）發展至關重要。ASML CEO Peter Wennink上月受訪時表示，AI需要“大量計算能力和數據儲存。 如果沒有ASML，沒有ASML的技術，將無法實現。 這會是我們業務的一大驅動力。”ASML發言人莫爾斯（Monique Mols）2月10日在媒體參觀該公司總部時說，安裝這套重達15萬公斤的系統，要用到250個貨箱、250名工程師，且需耗時6個月。ASML從2018年開始銷售的所謂low-NA（低數值孔徑）光刻機設備NXE系列，售價為1.7億歐元（約13.16億元）。