日本科技巨頭佳能（Canon）希望最早在今年推出新的低成本奈米壓印光刻機（NIL），以撼動半導體製造業。這項技術能將晶片設計印製在矽片上，而不是像市場領導者ASML的系統那樣使用更複雜的光蝕刻技術，它能讓佳能壓低競爭對手的價格，使尖端晶片生產平民化。

“我們希望在今年或明年……趁著市場熱度開始出貨。”佳能負責奈米壓印光刻技術開發的工業部門負責人竹西宏明（Hiroaki Takeishi）說：”這是一項非常獨特的技術，它將使尖端晶片的生產變得簡單而低成本。奈米壓印光刻機的半導體節點寬度為5 奈米，目標是最終達到2 奈米。”

Takeishi 說，這項技術主要解決了先前的缺陷率問題，但成功與否將取決於能否說服客戶將其整合到現有的製造工廠是值得的。

有人懷疑佳能是否有能力擾亂由ASML 昂貴但複雜的極紫外線（EUV）光刻工具引領的市場。然而，如果奈米壓印能以更低的成本將產量提高到近90%，它就能開闢出一片天地，尤其是在極紫外光供應難以滿足激增的需求的情況下。

據稱，佳能的奈米壓印設備成本僅為ASML 設備的40%，而運作功耗降低了90%。佳能最初專注於用此技術生產3D NAND 記憶體晶片，而不是複雜的處理器，因此同樣需要應對限制對華銷售的出口管制。

Takeishi 表示，佳能將”謹慎關注”制裁風險，但由於可選方案不多。佳能的奈米壓印技術經過15 年多的研發，如果能成功實現商業化應用，將能改變競爭格局，使新的競爭者能夠以更低的成本生產領先的半導體產品。但是，新機器的缺陷率、整合挑戰和地緣政治阻力能否讓佳能在與晶片製造巨頭的競爭中脫穎而出，還有待觀察。