根據外媒報道，去年，美國和荷蘭政府曾達成一項秘密協議，限制阿斯麥(ASML)向中國交付光刻機。然而，這項協議慘遭失敗，阿斯麥向中國銷售的光刻機反而激增。

這項協議此前從未被報導過。知情人士稱，荷蘭的光刻機出口管制新規在今年1月生效，美國和荷蘭去年原本希望把這項協議作為出口管制新規生效前的一項權宜之計，旨在優先向中國以外的市場出口阿斯麥的浸沒式深紫外線(DUV)光刻機。

然而，知情人士稱，全球經濟的低迷促使阿斯麥求助中國市場，以此來彌補其他地區的疲軟需求。阿斯麥成功遊說了荷蘭政府，促使後者向該公司發放了更多向中國出口關鍵半導體製造套件的許可，導緻美國官員認為該協議能夠限制阿斯麥對華光刻機出口的希望落空。

結果，中國反而成為了去年阿斯麥的最大市場。美國試圖削弱中國的晶片發展，越來越多地把阿斯麥列為目標，引起了阿斯麥CEO溫寧克(Peter Wennink)和一些當地議員的憤怒。溫寧克將在今年4月卸任。

知情人士稱，儘管阿斯麥的對華出口努力引發了美國的負面觀感，但該公司並沒有違反協議。半導體產業的長期低迷限制了其他地區對阿斯麥光刻機的需求。

荷蘭外貿部在聲明中表示：「荷蘭正在與我們的合作夥伴就出口管制展開持續對話。」該部門拒絕對具體案件或其國家安全考慮置評。

在這個秘密協議未能限制阿斯麥對中國的光刻機交付後，美國採取了更多措施限制對華光刻機出口。去年10月，美國官員單方面對外國公司出口DUV光刻機推出了新的限制。去年底，美國官員也要求阿斯麥立即停止向中國客戶運送部分設備。

截至發稿，美國國家安全委員會不予置評。