根據媒體通報，荷蘭半導體設備製造巨頭阿斯麥（ASML）確認，向英特爾交付首台高數值孔徑（NA）的極紫外線（EUV）光刻系統。數值孔徑是用來衡量光學系統能夠收集的光的角度範圍，透過增加數值孔徑，可以實現更小的解析度和更高的分辨能力，從而滿足微細加工的要求。

據介紹，每台新機器的造價成本超過3億美元（約21.4億元），可以滿足一線晶片製造商的需求，未來十年內能夠製造更小、更好的晶片。

阿斯麥發布了這台機器的一部分從荷蘭維爾德霍芬總部出發的照片，照片中機器的一部分被裝在一個保護盒裡，周圍還繫著一條紅絲帶。

阿斯麥同時表示：“我們很興奮，也很自豪能將我們的第一個高數值孔徑EUV系統交付給英特爾。”

這台機器組裝後將比一輛卡車還大，將用250個單獨的板條箱運送，其中包括13個大貨櫃，預計將從2026年或2027年開始用於商用晶片製造。

除了英特爾外，台積電、三星、SK海力士和美光等也都訂購了這台機器。