日前有報導稱，ASML將面向中國市場推出特別版DUV光刻機，不過此事已經闢謠，ASML表示一直以來ASML都遵守所適用的法律條例，公司並沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。此前消息稱，ASML推出的特別版DUV光刻機基於TwinscanNXT:1980Di光刻系統改造，而1980Di是10年前推出的舊型號，不在本次官方禁令範圍內。

1980Di是ASML現有效率比較低的光刻機，支持NA1.35光學器件、分辨率可以達到<38nm，理論上可以支持7nm工藝。

大多數晶圓廠使用1980Di光刻機，主要生產14nm及以上工藝芯片，很少使用其生產7nm芯片。

最近荷蘭發布新規定，企業出口先進設備需要申請許可，9月1日後生效。

ASML表示，根據新出口管制條例規定，該公司需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（即TWINSCANNXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統）。

荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，並將向ASML提供許可證所附條件的細節。