功耗降低50% 性能提升35% 三星3nm工藝下週量產
儘管台積電過去幾年在7nm、5nm、4nm等先進工藝上佔盡優勢,但是三星一直在努力追趕,3nm節點將成為三星的一次關鍵,韓國媒體稱三星將在下周宣布3nm工藝量產,進度將領先台積電。
據韓聯社消息,接近三星的消息人士稱,三星計劃在6月最後一周宣布量產3nm工藝的消息,屆時三星將會成為全球第一個量產3nm工藝的半導體廠商,台積電的3nm計劃是2022年下半年量產。
5月底,美國總統參觀了三星位於平澤市附近的芯片工廠,這裡是目前全球唯一一個可以量產3nm工藝的晶圓廠,三星首次公開了3nm工藝製造的12英寸晶圓,不過具體是哪款芯片還不得而知。
根據三星的說法,與7nm製造工藝相比,3nm GAA技術的邏輯面積效率提高了45%以上,功耗降低了50%,性能提高了約35%,紙面參數上來說卻是要優於台積電3nm FinFET工藝。