Intel宣布第一個下單訂購了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機。TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA（數值孔徑）EUV光刻機，其吞吐量超每小時220片晶圓（wph）。從路線圖來看，EXE:5200預計最快2024年底投入使用，2025年開始大規模應用於先進芯片的生產。

事實上，4年前，ASML的第一代高NA（0.55 NA）光刻機EXE:5000，Intel就是第一個下單的公司。不過當前的7nm、5nm芯片還並非是其生產，而是0.33NA EUV光刻機。

和0.33NA光刻機相比，0.55NA的分辨率從13nm升級到8nm，可以更快更好地曝光更複雜的集成電路圖案，突破0.33NA單次構圖32nm到30nm間距的極限。

外界預計，第一代高NA光刻機EXE:5000會率先用於3nm節點，至於EXE:5200，按照Intel的製程路線圖，2025年至少是20A或者18A（A代表埃米），也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米。

此前，ASML發言人曾對媒體透露，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時密度增加2.9倍。未來比3nm更先進的工藝，將極度依賴高NA EUV光刻機。

最後不得不說，Intel能搶到第一單，除了和ASML一致緊密合作外，當然也是因為“鈔能力”，Gartner分析師Alan Priestley稱，0.55NA下一代EUV光刻機單價將翻番到3億美元（約合19億元人民幣）。