為摩爾定律續命:從SoC轉向Chiplet”小晶片”
以英特爾前CEO戈登摩爾命名的摩爾定律,是指積體電路中的晶體管數量每兩年翻一番。 55年來,半導體行業一直用摩爾定律來制定路線圖和研發目標。 為延續摩爾定律、實現晶元小型化,55年間新技術不斷湧現。
但從歷史上看,晶圓的光掩模限制了單個晶元的最大尺寸,晶元製造商和設計人員不得不用多個晶元來完成提供的功能。 很多情況下,甚至是多個晶元提供相同的功能,就像是處理器的內核和記憶體模組那樣。
之前一直在用的SoC(片上系統)技術可以組合不同的模組,模組之間通信速度更快的同時,功耗更低、密度更高,而且成本更低。 但近年來,先進位造節點的成本增加,削弱了SoC技術在成本上的優勢。
在最新的台積電2021開放創新平台活動上,Alchip Technologies研發副總裁James Huang表示Chiplet”小晶片”和先進的封裝技術,可以提供比單個SoC更有競爭力的成本結構,同時保持接近的性能和功耗。
其引用了兩項對小晶元/封裝發展至關重要的技術:一項是台積電的 3DFabric 和CoWos組合技術,另一項是Alchip的APLink die-to-die (D2D) I/0技術。
Chiplet「小晶片」技術,顧名思義,就是用多個小晶元封裝在一起,用die-to-die內部互聯技術,組成異構System in Packages( SiPs)晶元。 而更小的晶片單體,可以提高每片晶圓的利用率,從而降低成本。
但為了維持摩爾定律,Chiplet「小晶元」技術還需要提供與SoC技術接近的性能,需要AIchip的APLink D2D I/0技術支撐多個小晶元之間的高速數據流。
APlink 1.0使用的是台積電的12nm工藝,速度是1Gbps;APlink 2.0用的是7nm工藝,速度是4Gbps;正在測試的APLink 3.0已經有16Gbps的速度。
根據路線圖,即將推出的APLink 4.0會採用 3nm D2D工藝。 APlink 4.0 IP 將支援北/南、東/西方向和對稱式PHY對齊,以盡量減少D2D線長,其互連拓撲的I/O總線會用標準的內核電壓,PHY宏的速度將達到12Tbps,每條DQ的速度達到16Gbps,且只有5納秒延遲 。
圖源EETimes
Chiplet「小晶元」技術涉及封裝、EDA、晶元架構設計等多個領域,也有機會重構半導體產業鏈。 但最後落地的關鍵是商業模式,Chiplet小晶片還需要點時間來證明自己。