三星5納米節點產能方面遇到困難消息稱V1產線良率不到50%
半導體製造從來不是一件容易的事,位於這一行業的每家公司都知道這一點,即使像三星和英特爾這樣最強大的公司也感受到了矽製造的艱辛。今天,根據《Business Korea》的最新報導,三星在其5納米節點上再次陷入困境。
此前有報導稱,三星正在為其5納米節點的產量而努力,然而,直到現在我們才知道問題有多大。
該媒體報導稱,三星的5納米半導體節點正經歷著不到預期50%的良率。這意味著,例如,在單個矽晶圓上製造的100個芯片中,只有一半能發揮作用,這當然不是什麼好消息。
通常情況下,一個節點要進入大批量製造(HVM),良品率需要達到95%左右。如果沒有達到這個水平,該節點的生產效率就不高,利潤也不高。位於韓國華城市的V1生產線是製造三星5納米工藝芯片的地方,它使用EUV工具來製造新節點。雖然目前良率低於50%,但隨著三星工程師對節點和運行該設施的工具進行調整和調節,預計會有所改善。我們可以期待在未來幾個月聽到更多關於這個節點的產量。