日前三星聯合Synopsys宣布3nm GAA工藝已經流片成功，這是全球首個GAA晶體管工藝流片，意義重大。然而三星並沒有透露3nm GAA工藝何時量產，這是最關鍵的部分。

日前有分析師援引高通高管之前的一個表態，認為2023 年才會有3nm GAA 工藝的芯片問世，但更現實的時間點是2024 年，也是說要到3 年後才能量產。

三星早在2019年公佈3nm GAA工藝的PDK規範時就表示，預計3nm GAA工藝會在2020年底試產，2021年量產——現在來看，三星太樂觀了，3nm GAA工藝跳票了三年時間。

往好的方面看，3nm工藝用上GAA晶體管技術之後，變化還是值得期待的，與5nm製造工藝相比，3nm GAA技術的邏輯面積效率提高了35%以上，功耗降低了50%，性能提高了約30%。

壞消息是，三星3nm GAA 工藝假如拖到2024 年才能量產，那時候台積電的2nm 工藝也差不多量產了，同樣用上了GAA 晶體管技術，三星超越台積電的願望恐怕要收到打擊了。