2021線上技術研討會:台積電宣布車用N6A與通信類N5RF新工藝
在昨日的2021線上技術研討會期間,台積電(TSMC)宣布了最新的定制半導體工藝節點,以鞏固該公司的芯片製造技術組合。作為業內領先的芯片代工製造商,其承接了全球市場範圍內的多數訂單,且大客戶中包括了蘋果、AMD、高通、英偉達等科技巨頭。
(圖自:TSMC)
研討會期間,台積電行政總裁CC Wei 博士介紹了兩種新的定制半導體芯片製造工藝,分別是面向汽車領域的N6A、以及面向通信產品的N5RF,且強調了台積電無懼於對手的競爭。
接著台積電汽車與MCU 業務主管Cheng-Meng Lin 博士、與射頻模擬業務主管Jie Jay Sun 博士,陸續分享了有關N6A 和N5RF 新工藝節點的詳細信息。
首先,N5A 屬於迄今為止同類產品中最先進的汽車應用芯片製造工藝。台積電當前正在使用N6 / N7 製程來打造汽車應用芯片,類似於PC / 智能機芯片。
但N5A 將把N5 晶圓廠的特定產能,用於充滿前景的汽車應用芯片市場,併計劃在明年3 季度之前完成所需的認證。
Lin 博士評論道:N5A 繼承了N5 的計算性能、功率效率、以及邏輯密度,目前它正處於開發階段,且該公司致力於在2022 年3 季度史前實現2 級質量保證。
另一方面,Sun 博士分享了與N6RF 工藝相關的細節,尤其是晶體管較之前的16nm 工藝顯著提升了對射頻(RF)功能至關重要的功率效率和性能。
與16nm 舊工藝相比,N6RF 還可將功耗和芯片面積減少多達50% 。目前N6RF 的設計工具已可使用,但台積電還計劃在明年推出進一步提升性能表現的“增強”版本。