ASML公司近日宣布將會自今年開始，提供透射率超過90%薄片的極紫外（EUV）系統。ASML韓國市場經理MyoungKuy Lee在SMC韓國研討會上說，該公司將開始生產透射率超過90.6%的薄片。

Lee 表示通過和Teradyne 公司的共同合作，這些薄片已經確保了400 瓦的功率耐久性。這家位於荷蘭的工廠設備製造商在2016 年首次開發了多晶矽EUV 薄膜。當時，它的透光率為78%。它在2018 年開發出的透光率約為80%，另一種在2020 年超過85%。

EUV系統的光線從鏡子中反射到晶圓上，與以前使用氟化氬激光器從頂部射入晶圓的系統不同。這就要求用於EUV系統的薄膜更加透明，以確保光線通過它們到達晶圓時不會被削弱。三星和台積電此前曾表示，他們需要透光率超過90%的薄片才能考慮使用這些薄片。

這些公司已經使用了沒有薄膜的EUV系統，儘管由於透射率不理想而有灰塵沉澱的風險。ASML的顆粒將由日本的三井化學公司製造。兩家公司早在2019年就簽署了關於EUV膠粒的合作協議。