三星電子在平澤的新代工線最早將於今年6月投產。位於平澤2工廠（P2）的全新晶圓生產線已經調試完畢。平澤1工廠（P1）於2017年6月開始量產，而P2工廠於2018年破土動工。

新工廠於2020年下半年開始量產面向移動設備的第三代10納米LPDDR5 DRAM，製造工藝中運用了EUV光刻設備，LPDDR是低功耗雙數據速率的縮寫。

除了DRAM生產線外，平澤P2還擁有超微晶圓代工生產線和下一代V-NAND閃存生產線，計劃於2021年投產。

三星電子一位高層表示，按照最初的計劃，平澤P2的所有生產線將在2021年下半年投產。

業內人士表示：”據我所知，平澤P2從2021年開始就一直在提高運轉率”。