上海新陽半導體材料股份有限公司發佈公告，披露了關於購買ASML-1400光刻機的最新進展。據介紹，上海新陽自立項開發193nmA rF干法光刻膠的研發及產業化項目以來，安排購買了ASML-1400光刻機等核心設備，並於2020年12月14日披露，該光刻機將於2020年底前運抵國內。

不過此後，由於上海新陽與光刻機供應商、北方集成電路技術創新中心(畢竟)有限公司在溝通協調設備運輸與安裝等細節方面遇到波折，光刻機設備沒能在規定時間內運達。

隨後，雙方就具體合作細節簽署了《合作框架協議》，預計該光刻機將於2021年3月底前進入北方集成電路現場。

現經各方積極協商、運作，這台光刻機設備於今日已進入北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司的場地，後續將進行安裝調試等相關工作。

上海新陽表示，採購的ASML干法光刻機設備順利交付，對加快193nm ArF干法光刻膠產品開發進度有積極影響，有利於進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭力，加快落實公司發展戰略，提高公司抗風險能力和可持續發展能力。

不過，這台光刻機尚須經過裝機、調試等相關環節，如果出現工作疏漏或失誤，則存在造成光刻機投入使用過程較長，甚至無法投入使用的風險。

另外，光刻膠研發項目技術壁壘高、週期長，投入產業化並最終實現銷售利潤，仍需一定時間，而且價格昂貴，其折舊及後續維護費用預計對公司的經營業績存在一定影響。