援引韓媒BusinessKorea報導，以三星為代表的韓國企業在EUV光刻技術方面取得了極大進展。根據對韓國知識產權局（KIPO）過去十年（2011-2020）的EUV相關專利統計，在2014年達到88項的頂峰，2018年為55項，2019年為50項。

特別需要注意的是，韓國企業在EUV 光刻技術上一直不斷縮和國外企業之間的差距。在韓國知識產權局2019 年收錄的50 項專利中，其中40 項是由韓國人提交的，只有10 項是外國人提交的。這也是韓國人提交的專利首次超過外國人。到2020 年，韓國提交的申請也將是外國人申請的兩倍以上。

EUV光刻技術整合到多種先進技術，包括多層反射鏡、多層膜、防護膜、光源等等。在過去十年裡，包括三星電子在內的全球公司進行了深入的研究和開發，以確保技術領先。最近，代工公司開始使用5納米EUV光刻技術來生產智能手機的應用處理器（AP）。

如果按照公司劃分，前六家公司占到總專利申請量的59%。其中卡爾蔡司（德國）佔18％，三星電子（韓國）佔15％，ASML（荷蘭）佔11％，S＆S Tech（韓國）佔8％，台積電（中國台灣）為6％，SK海力士（韓國）為1％。

如果按照詳細的技術項目來劃分，處理技術（process technology）的專利申請量佔32％；曝光設備技術（exposure device technology）的專利申請量佔31％；膜技術（mask technology）佔比為28% ，其他為9%。

在工藝技術領域，三星電子佔39％，台積電佔15％，這意味著兩家公司佔54％。在膜領域，S＆S Tech佔28％，Hoya（日本）佔15％，Hanyang University（韓國）佔10％，Asahi Glass（日本）佔10％，三星電子佔9％。