作為半導體製造中的核心設備，光刻機無疑是芯片產業皇冠上的明珠，特別是先進工藝的光刻機，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機他們還是獨一份。日前在上海的第三屆進出口博覽會上，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波在採訪中表示，他們對進博會開放、合作的理念很認同，這也是ASML公司長期以來支持行業和客戶發展的信念。

沈波透漏，ASML與中國的淵源極深，最早一台光刻機是於1988年進入中國，迄今已經32年了。

2000年ASML還在天津正式成立了分公司，目前已在中國設有12個辦公室，11個倉儲物流中心，2處開發中心，1個培訓中心，共擁有1000多名員工。

根據沈波的消息，這麼多年來他們已經為中國國內地區的半導體客戶累積提供了700多台裝機。

隨著國內半導體行業的發展，國內客戶購買的光刻機等產品也越來越多，根據ASML的財報，今年Q2、Q3季度中，公司發往國內地區的光刻機佔了全球銷量的20 %。

在這次進博會上，ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機台計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術，讓邊緣定位精度不斷提高，目前的DUV光刻機可以製造7nm及以上工藝的半導體芯片。