據外媒報導，台積電在最近舉行的年度技術研討會上透露了大量有關該公司的信息，尤其是有關其芯片製造業務未來的信息。這些信息包括有關N5、N4、N3和N12e等先進工藝節點的新細節，這些節點將在未來幾年為許多設備提供動力。不過，台積電也透露了自己在尖端製造實力中的地位。

根據Ian Cutress博士的報告，台積電目前占到行業EUV（極紫外光）設備安裝數量的50%。此外，台積電還宣稱其EUV晶圓產量佔整個行業累計產量的60%。

台積電的N7+工藝是該公司第一個使用EUV光刻技術的節點，而該公司的N5工藝將進一步利用EUV技術。此外，任何超5nm的器件都將廣泛依賴EUV光刻技術。目前，除了台積電的N7+和N5，三星也有其7LPP工藝並有望利用EUVL。

ASML是唯一一家生產和銷售EUV光刻設備的公司，據Cutress估計，台積電已經從這家公司手中購買了30-35台設備。據估計，ASML今年已售出約70台機器，等到底可能會達到90台。

最近，台積電慶祝了10億多塊無缺陷7nm芯片的出貨。