台積電預計5nm將佔2020年16nm以下晶圓產能的11%
經歷風險試產之後,芯片代工廠商通常會迅速提升基於新一代製程的晶圓產能。而通過當前公佈和預期生產的產品範圍,我們還可以知曉廠商對新工藝的信心有多高。作為2020年度技術研討會的一部分,台積電就發表了其對於5nm先進製程(簡稱N5)的一點展望。預計2020年底的時候,我們可見到首批基於N5工藝的消費級產品,尤其是智能手機。
資料圖(來自:TSMC)
通常情況下,初始生產的轉進會相對較慢。因為產品研發和驗證將耗費大量的時間,一不小心就會落後於市場上的其它競爭對手(比如TSMC 運氣不佳的20nm 工藝)。
不過目前,台積電已經開始了N5 的大規模生產。這意味著相關客戶已經拿到了用於驗證的預生產芯片,甚至已經在交付第一批新硬件。
圖表Y 軸標明為“12 英寸晶圓佔比”
從台積電在技術研討會上分享的PPT 來看,該公司2020 年度生產的16nm 以下晶圓中,將有11% 基於5nm 工藝。遺憾的是,台積電並未公佈確切的數據。
但在另一張PPT 中,該公司還是披露在2019 年生產了超過1200 萬片12 英寸晶圓(涵蓋了所有工藝與設施)。財務方面,TSMC 僅對每個節點進行了細分(僅按收入分類)。
若將5nm 與7nm 產能進行比較,可知後者在過去一年時間裡迎來了22.7% 的增長,而2020 年度的5nm 產能將相當於7nm 的24% 左右。基於此,台積電預計2021 和2022 年的5nm 產能將為2020 年的2~3 倍。
據悉,目前該公司的所有5nm 芯片都在最新建造的Fab 18 晶圓廠製造,這裡的六幢建築被TSMC 詡為“第四代超級工廠”(4th GigaFab)。
自2018 年1 月26 日破土動工以來,Fab 18 在一年後便開始安裝1300 多種製造工具,包括EUV 光刻機,且整個過程僅耗費了8 個月的時間。
之後台積電開始了5nm 的風險試產,並於2 季度開啟了大批量生產,預計年產能可超過100 萬片12 英寸晶圓(全部為5nm 工藝)。與同等規模的競爭對手相比,其在能效等方面均處於業內領先地位。