光刻機巨頭ASML（阿斯麥）日前宣布，將在中國台灣的南部科學園區建立自己在海外（荷蘭之外）的首個培訓中心，旨在就近輔導台積電所領導EUV光刻製造集群。所謂EUV即極紫外光刻，目前全球有且只有ASML可以生產相關機器。

光刻是半導體芯片製造中最費時間也是最費成本的環節之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機水平。

台積電的第一代7nm因為趕進度，沒有使用EUV，而是DUV（深紫外光刻），不過隨著7nm的改良以及5nm量產、3nm風險試產的進行，EUV開始更多導入。

ASML今年二季度的財報顯示，雖然僅僅出貨了9台光刻機，但淨利潤高達7.51億歐元。畢竟，一台EUV光刻機的售價就達到約合10億元人民幣左右。

另外，TrendForce數據顯示，今年第一季度，台積電營收102億美元，是第二名三星的幾乎4倍。