作為半導體卡脖子的技術之一，很多人只知道光刻機，卻不知道光刻膠的重要性，這個市場也是被日本及美國公司壟斷，TOP5廠商佔了全球85%的份額。國產光刻膠此前只能用於低端工藝生產線中，能做到G 線（436nm）、I 線（365nm）水平，目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進口，EUV光刻膠目前還沒有公司能生產，基本上都控制在日本公司手中。

不過EUV光刻膠也不是急需的，因為國內目前還沒有EUV工藝量產，193nm的ArF光刻膠更加重要，目前國內有多家公司正在攻關中，這種光刻膠可以用於28nm到7nm工藝的先進工藝。

今天，南大光電在互動平台表示，公司的ArF光刻膠正在按計劃進行客戶測試，這意味著國內的ArF光刻膠技術取得了重要突破，從研發開始走向生產。

根據南大光電公司之前的消息，公司於2017年開始研發“193nm 光刻膠項目”，已獲得國家“02 專項”的相關項目立項，公司計劃通過3年的建設、投產及實現銷售，達到年產25噸193nm（ArF乾式和浸沒式）光刻膠產品的生產規模，產品將滿足集成電路行​​業需求標準。