GF用12nm FinFET工藝製造出新級別ARM 3D芯片
去年,正在三星和台積電的7nm工藝臨陣待發時,GF突然公佈了一項重要的戰略轉變,決定停止在7nm工藝技術的所有工作及後續製程的研發,將專注於為新興高增長市場的客戶提供專業的製造工藝,包括射頻芯片和嵌入式存儲芯片等低功耗領域。
不過,先進半導體製程的提升難度越來越大,無論英特爾還是台積電,都在通過先進封裝技術進一步提升性能。目前看來,GF也加入其中。這可能意味著半導體先進工藝的競爭,正在進入一個新的階段。
GF(GlobalFoundries,格羅方德)本周宣布,它已採用其12nm FinFET工藝製造出高性能3D Arm芯片。GF認為,這些高密度3D芯片將為計算應用提供“新級別“的系統性能和能耗,例如AI / ML以及高端設備和無線解決方案。”
3D芯片的競賽
測試芯片採用GF的12nm(12LP)FinFET工藝製造,同時在3D面中使用Arm的網狀互連技術。這使得芯片更容易擴展出更多的核心數量,並且數據能夠更直接地從一個內核移動到另一個內核。而3D芯片可以在數據中心、邊緣計算以及高端消費設備中降低延遲,提升數據傳輸速度。
“在大數據和認知計算時代,先進的封裝技術正在發揮比以往更大的作用。人工智能的發展對高能效,高吞吐量互連的需求,正在通過先進的封裝技術的加速發展來滿足。 “GF的平台首席技術專家John Pellerin在一份聲明中表示。
“我們很高興與Arm等創新合作夥伴合作,提供先進的封裝解決方案,進一步集成各種節點,優化邏輯尺寸,提高內存帶寬和射頻性能。這項工作將使我們對採用先進的封裝技術產生新的見解,使我們共同的客戶能夠更有效地創建完整、差異化的解決方案。“
兩家公司已經使用GF的晶圓級邦定(wafer-to-wafer bonding),驗證了3D設計測試(DFT,3D Design-for-Test)方法。GF表示,該技術每平方毫米可以實現高達100萬個3D連接,使其具有高度可擴展性,並有望延長12納米3D芯片的使用壽命。
Arm是最近一家對3D芯片表現出興趣的IP公司之一。英特爾去年宣布了其對3D芯片堆疊的研究,AMD也討論了在其芯片上的3D堆疊DRAM和SRAM,當然,閃存NAND公司已經生產了3D存儲芯片。業界似乎致力在不久的將來製造更多3D芯片。
先進節點滯後,GF專注3D芯片
GF最近不得不承認它無法為AMD推出Zen 2芯片提供7nm工藝。這極大地影響了兩家公司之間長達十年的關係。當然,AMD仍然是GF的客戶,但比以前小得多。
GF不得不為未來重塑自我,因為摩爾定律已經放緩,縮小半導體工藝節點變得越來越困難和昂貴。轉向3D芯片製造似乎有助於GF保持與客戶的關係,因為其客戶要求每年製造出更高性能的芯片。
由於12nm工藝更加成熟,因此在3D面上開發芯片應該更容易,而不必擔心新的7nm工藝可能帶來的問題。然而,台積電、三星和英特爾能夠在比GF小得多的節點上開發3D芯片只是時間問題。如果是這樣的話,GF可能不得不繼續專注於生產具有“老技術”的高價值3D芯片。